3次元レーザ・リソグラフィシステム群
| 分野 | 加工・デバイスプロセス分野 |
| 機器ID | NU-246 |
| 装置名 | 3次元レーザ・リソグラフィシステム群 / 3 dimentional laser lithography system |
| メーカー名 | Nanoscribe KISCO / Nanoscribe KISCO |
| 型番 | Photonic Professional SCLEAD3CD2000 |
| 大分類（第1） |
リソグラフィ |
| 中分類（第1） |
光露光（マスクレス、直接描画） |
| キーワード | fsレーザ露光 3次元造形 超臨界乾燥 |
| 設置場所 | 名古屋大学東山キャンパス IB電子情報館西棟5階 |
Nanoscribe Photonic Professional
・2次元加工精度：100 nm
・3次元加工精度：150 nm
・対応データ：DXF, STL KISCO SCLEAD3CD2000
・設計温度：100 ℃
・設計圧力：20 MPa