3元マグネトロンスパッタ装置
| 分野 | 加工・デバイスプロセス分野 |
| 機器ID | NU-205 |
| 装置名 | 3元マグネトロンスパッタ装置 / 3 sources magnetron sputtering |
| メーカー名 | 島津製作所 / SHIMADZU |
| 型番 | HSR-522 |
| 大分類（第1） |
成膜装置 |
| 中分類（第1） |
スッパタリング（スパッタ） |
| キーワード | スパッタ 成膜 多層膜 |
| 設置場所 | 名古屋大学東山キャンパス 先端技術共同研究施設 |
・4インチカソード3本
・RF電源500 W 2台 ・逆スパッタ機構
・基盤回転
・シャッター開閉機構による多層膜成長可能