電子線露光装置
| 分野 | 加工・デバイスプロセス分野 |
| 機器ID | NU-206 |
| 装置名 | 電子線露光装置 / Electron beam lithography |
| メーカー名 | 日本電子 / JEOL |
| 型番 | JBX6300FS |
| 大分類（第1） |
リソグラフィ |
| 中分類（第1） |
電子線描画（EB） |
| キーワード | 電子線露光 |
| 設置場所 | 名古屋大学東山キャンパス 先端技術共同研究施設 |
・加速電圧：25/50/100kV
・最小ビーム径：2nm
・ビーム電流：100pA-2nA
・重ね合わせ精度：±9nm
・最大試料サイズ：8inchφ