両面露光用マスクアライナ
| 分野 | 加工・デバイスプロセス分野 |
| 機器ID | NU-208 |
| 装置名 | 両面露光用マスクアライナ / Mask aligner |
| メーカー名 | Suss MicroTec AG / Suss MicroTec AG |
| 型番 | MA-6 |
| 大分類（第1） |
リソグラフィ |
| 中分類（第1） |
光露光（マスクアライナ） |
| キーワード | 光リソグラフィ コンタクト露光 両面露光 |
| 設置場所 | 名古屋大学東山キャンパス 先端技術共同研究施設 |
・対応基板サイズ：10mm～最大6インチ径ウェハ
・主波長：350 nm〜450 nm
・裏面アラインメント機能（CCD画像記憶方式）
・アライメント精度:±0.5 µm(表面アラインメント)，±0.1 µm(裏面アラインメント)