リアクティブイオンエッチング装置
| 分野 | 加工・デバイスプロセス分野 |
| 機器ID | NU-217 |
| 装置名 | リアクティブイオンエッチング装置 / Reactive ion etching |
| メーカー名 | サムコ / Samco |
| 型番 | RIE-10N |
| 大分類（第1） |
膜加工・エッチング |
| 中分類（第1） |
プラズマエッチング |
| キーワード | 反応性イオンエッチング SiO2エッチング |
| 設置場所 | 名古屋大学東山キャンパス 先端技術共同研究施設 |
・CF4，SF6，O2使用可能
・電極径：210 mmΦ
・最大RF電力：：300Ｗ