プラズマCVD装置
| 分野 | 加工・デバイスプロセス分野 |
| 機器ID | NU-221 |
| 装置名 | プラズマCVD装置 / Plasma CVD |
| メーカー名 | サムコ / Samco |
| 型番 | PD-240 |
| 大分類（第1） |
成膜装置 |
| 中分類（第1） |
化学蒸着(CVD)装置 |
| キーワード | プラズマCVD SiO2成膜 |
| 設置場所 | 名古屋大学東山キャンパス 先端技術共同研究施設 |
・基板加熱：抵抗加熱式 (～400℃)
・適正ウェハ寸法：不定形～3インチ径
・供給ガス：TEOS, O2