レーザー描画装置
| 分野 | 加工・デバイスプロセス分野 |
| 機器ID | NU-222 |
| 装置名 | レーザー描画装置 / Laser lithography |
| メーカー名 | Heidelberg Instruments / Heidelberg Instruments |
| 型番 | DWL66FS |
| 大分類（第1） |
リソグラフィ |
| 中分類（第1） |
光露光（マスクレス、直接描画） |
| キーワード | レーザ描画 |
| 設置場所 | 名古屋大学東山キャンパス ベンチャービジネスラボラトリ |
・最小描画サイズ：0.6 µm
・最大描画サイズ：200mm x 200mm
・直描およびガラスマスク作製