スパッタリング装置
| 分野 | 加工・デバイスプロセス分野 |
| 機器ID | NU-245 |
| 装置名 | スパッタリング装置 / Sputtering system |
| メーカー名 | キャノンアネルバ / Canon Anelva |
| 型番 | E-200S |
| 大分類（第1） |
成膜装置 |
| 中分類（第1） |
スッパタリング（スパッタ） |
| キーワード | スパッタ 成膜 |
| 設置場所 | 名古屋大学東山キャンパス IB電子情報館西棟5階 |
・ターゲット：SiO2，Cr，Au
・膜厚分布：Φ100 mm内±3％
・基板ホルダー：Φ200 mm
・基板加熱：Max 300℃（水冷付）