両面露光用マスクアライナ
| 分野 | 加工・デバイスプロセス分野 |
| 機器ID | NU-257 |
| 装置名 | 両面露光用マスクアライナ / Mask aligner |
| メーカー名 | ユニオン光学 / Union |
| 型番 | PEM800 |
| 大分類（第1） |
リソグラフィ |
| 中分類（第1） |
光露光（マスクアライナ） |
| キーワード | 光リソグラフィ コンタクト露光 両面露光 |
| 設置場所 | 名古屋大学東山キャンパス工学部2号館1階 |
・両面露光が可能
・対応基板サイズ：最大４インチ
・最小パターン：3.0μm