原子層堆積装置
| 分野 | 加工・デバイスプロセス分野 |
| 機器ID | NU-232 |
| 装置名 | 原子層堆積装置 / Atomic layer deposition |
| メーカー名 | サムコ / Samco |
| 型番 | AD-100LE |
| 大分類（第1） |
成膜装置 |
| 中分類（第1） |
原子層堆積(ALD)装置 |
| キーワード | 原子層堆積 |
| 設置場所 | 名古屋大学東山キャンパス ベンチャービジネスラボラトリ |
・Al2O3, SiO2, AlOxNy, SiOxNy成膜用
・基板サイズ：212 mmΦ
・加熱温度：最大500℃
・ガス導入系：有機金属系2系統，H2O，O2，N2