レーザ描画装置
| 分野 | 加工・デバイスプロセス分野 |
| 機器ID | NU-244 |
| 装置名 | レーザ描画装置 / Laser lithography |
| メーカー名 | Heidelberg Instruments / Heidelberg Instruments |
| 型番 | mPG101-UV |
| 大分類（第1） |
リソグラフィ |
| 中分類（第1） |
光露光（マスクレス、直接描画） |
| キーワード | レーザ描画 グレースケール露光 |
| 設置場所 | 名古屋大学東山キャンパス IB電子情報館西棟5階 |
・対応基板：100 mm ×100 mm
・加工精度：3 µm
・最小アドレスグリッド：100 nm
・対応データ：DXF，CIF，BMP