両面露光用マスクアライナ
| 分野 | 加工・デバイスプロセス分野 |
| 機器ID | NU-250 |
| 装置名 | 両面露光用マスクアライナ / 両面露光用マスクアライナ |
| メーカー名 | Suss MicroTec AG / Suss MicroTec AG |
| 型番 | MJB-3 |
| 大分類（第1） |
リソグラフィ |
| 中分類（第1） |
光露光（マスクアライナ） |
| キーワード | 光リソグラフィ コンタクト露光 両面露光 |
| 設置場所 | 名古屋大学東山キャンパスIB電子情報館西棟5階 |
・最大ウェーハサイズ：3 inch（吸引モード），4 inch（ソフトコンタクト）
・照射範囲：3×3 inch
・対応基板厚さ：4.5 mm 両面露光：可能（赤外線照明）