マスクアライナ
| 分野 | 加工・デバイスプロセス分野 |
| 機器ID | NU-251 |
| 装置名 | マスクアライナ / マスクアライナ |
| メーカー名 | ナノテック / Nanometric Technology |
| 型番 | LA410 |
| 大分類（第1） |
リソグラフィ |
| 中分類（第1） |
光露光（マスクアライナ） |
| キーワード | 光リソグラフィ コンタクト露光 |
| 設置場所 | 名古屋大学東山キャンパスIB電子情報館西棟5階 |
・適応マスク：最大 5 inch
・適応資料：最大Φ4 inch
・有効露光範囲：Φ80 mm以上