マスクレス露光装置
| 分野 | 加工・デバイスプロセス分野 |
| 機器ID | NU-231 |
| 装置名 | マスクレス露光装置 / Maskless lithography |
| メーカー名 | ナノシステムソリューションズ / Nanosystem Solutions |
| 型番 | DL-1000 |
| 大分類（第1） |
リソグラフィ |
| 中分類（第1） |
光露光（マスクレス、直接描画） |
| キーワード | マスクレス露光 |
| 設置場所 | 名古屋大学東山キャンパス ベンチャービジネスラボラトリ |
・最大露光面積：200 mm x 200 mm
・最小画素：1 µm（高精細露光機能付）
・つなぎ合わせ精度：0.1 µm
・重ね合わせ精度：±1 µm
・オートフォーカス機能有