ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
| 分野 | 加工・デバイスプロセス分野 |
| 機器ID | NU-237 |
| 装置名 | ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置 / Multipurpose plasma process system with radical monitor |
| メーカー名 | 自作 / Lab made |
| 型番 | |
| 大分類（第1） |
表面処理・洗浄 |
| 中分類（第1） |
プラズマ処理 |
| キーワード | プラズマ処理 X線光電子分光 FTIR |
| 設置場所 | 名古屋大学東山キャンパス 低温プラズマ科学研究センター |
・プラズマ処理の際に生成する温度，ラジカル密度，励起種，表面分析をIn-situで行う．
・プロセスガス：H2，N2，Ar，O2，He
・基板温度：－10℃-60℃
・サンプル：4インチウエハ