RIEエッチング装置
![](https://nls.mirai.nagoya-u.ac.jp/nextgenbiomater/wp-content/uploads/2022/11/NU-226-300x300.jpg)
分野 | 加工・デバイスプロセス分野 |
機器ID | NU-226 |
装置名 | RIEエッチング装置 / RIE etching |
メーカー名 | サムコ / Samco |
型番 | RIE-10NR |
大分類(第1) |
膜加工・エッチング |
中分類(第1) |
プラズマエッチング |
キーワード | 反応性イオンエッチング SiO2エッチング |
設置場所 | 名古屋大学東山キャンパス ベンチャービジネスラボラトリ |
・シリコン系エッチング
・対応基板サイズ:最大8インチ
・プロセスガス:CF4,Ar,SF6,O2