高精度電子線描画装置
| 分野 | 加工・デバイスプロセス分野 |
| 機器ID | NU-249 |
| 装置名 | 高精度電子線描画装置 / Scanning electron microscope with add-on lithography system |
| メーカー名 | 日本電子 サンユー電子 / JEOL Sanyu Electron |
| 型番 | JSM-7000FK SPG-724 |
| 大分類（第1） |
電子顕微鏡 |
| 中分類（第1） |
走査型電子顕微鏡 |
| キーワード | 表面形状分析 電子線露光 |
| 設置場所 | 名古屋大学東山キャンパス IB電子情報館西棟5階 |
・分解能：1.2 nm(30kV)
・倍率：×10～×1,000,000
・試料室：最大200 mm
・描画方式：ラスタースキャン方式/ブロックスキャン方式
・描画フィールド：50 µm□/100 µm□/200 µm□/500 µm□（ラスタースキャン），
2,500 µm□，1ブロック＝2.5 µm□（ブロックスキャン）